第五十三章 模压硫系玻璃元件3.7~4.8μm增透膜的研制
- 分类：工艺讲堂
- 作者：工艺部研发中心
- 来源：成都国泰真空设备有限公司
- 发布时间：2023-11-03
- 访问量：1000
【概要描述】硫系玻璃基底3.7~4.8μm增透膜的研究，通过工艺优化，热应力仿真等解决了硫系玻璃元件增透膜脱膜的问题，制备的增透膜能够满足使用要求。
第五十三章 模压硫系玻璃元件3.7~4.8μm增透膜的研制
【概要描述】硫系玻璃基底3.7~4.8μm增透膜的研究，通过工艺优化，热应力仿真等解决了硫系玻璃元件增透膜脱膜的问题，制备的增透膜能够满足使用要求。
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本期主要分享团队在硫系玻璃（IRG206）基底表面成功制备3.7~4.8μm增透膜的案例，以供大家参考。
1、材料选择及膜系结构设计
2、薄膜的制备
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第五十四章 硫系玻璃元件短中波红外增透膜的研制
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