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第六十九章 红外探测器三波段高通滤光膜的研制

本期主要分享团队成功研制红外探测器三波段高通滤光膜的实例。采用电子束真空镀膜的方法加以离子辅助,优化镀膜工艺参数如烘烤温度、蒸发速率、离子源、真空度等,改进监控方法,减少膜厚控制误差,并点解决了ZnS基底上膜层牢固耐久性与膜系的吸收和散射损耗问题,所镀制的薄膜满足红外探测器的性能要求以及使用环境要求
31 2024/10

光学真空镀膜技术:市场趋势与未来发展

光学真空镀膜技术的未来充满挑战和机遇。随着技术的不断进步和市场需求的扩大,该技术将在更多领域展现其独特的价值。我们公司将继续关注市场趋势,不断创新,以满足客户的需求,并推动光学真空镀膜技术的发展。
23 2024/10

提升光学真空镀膜工艺:工艺优化与质量控制

光学真空镀膜工艺的优化和质量控制是我们公司持续追求的目标。通过不断的技术创新和客户合作,我们致力于提供最高质量的产品和服务,推动光学制造行业的发展。
21 2024/10

光学真空镀膜技术的未来:新设备研发的推动力

继前两篇文章对光学真空镀膜技术的介绍及其在现代科技中的应用之后,本文将聚焦于新设备研发对光学真空镀膜技术未来发展的推动作用,以及我们公司在这一领域的战略规划和创新实践。
10 2024/10

第六十八章 光谱探测中超宽带增透膜

本期主要针对光谱探测中的超宽带增透膜进行研究,通过对混合材料特性的研究,优化了SiO和MgF2的共蒸发速率,得到了与Si材料相匹配的折射率,同时降低了相应波段的吸收峰。采用先预镀10nm的 SiO材料,然后进行共蒸发可以实现对两种材料混合比例准确控制,同时调整充气量控制真空度稳定。制备的超宽带增透膜膜在1300nm~3400nm平均光谱透过率为96.7%,但是与理论设计相比仍然有所下降,如何进一步提高光谱透过率并减少在2600~2900nm波段的吸收是下一步研究的重点。
07 2024/10

第六十七章 红外探测器滤光膜的研究与制备

本期主要针对红外探测器滤光膜进行研究,采用电子束蒸发和离子辅助沉积技术,通过对ZnS和YbF3光学特性的研究,以及对工艺参数如烘烤温度、离子源、膜厚控制等参数的优化,解决了蓝宝石基底上膜层牢固性及1.6~1.7μm之间的平均透过略高等问题。经测试薄膜能够承受恶劣工作环境的考验,基本满足了探测器的使用要求。
02 2024/09
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