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GTRF-17、GTRF-23射频离子源

GTRF-17、GTRF-23射频离子源

GTRF-17、GTRF-23射频离子源

国泰真空全自主研发设计制造的GTRF-17和GTRF-23射频离子源主要用于精密光学镀膜,它具有能量高、能量分布均匀性好、工作时间长、污染小等优点,在镀膜领域的主要应用是离子束辅助沉积和离子束清洗等。
产品咨询电话:400-6667-357
GTRF-17、GTRF-23射频离子源
产品介绍

设备简介:

国泰真空全自主研发设计制造的GTRF-17和GTRF-23射频离子源主要用于精密光学镀膜,它具有能量高、能量分布均匀性好、工作时间长、污染小等优点,在镀膜领域的主要应用是离子束辅助沉积和离子束清洗等。

 

设备主要规格参数:

型号 GTRF-17 GTRF-23

栅网直径(mm

170 230

BEAM电流(mA

1500 2000

BEAM电压(V 

1500 1500

ACC电压(V

1500 1500

中和比E/B%

100-200 100-200

  源头GAS1-Osccm  

0-100 0-100

源头GAS2-Ar sccm

0-50 0-50

中和器GAS3 -Arsccm

5-20 5-20

连续使用时间(h

500

500

推荐使用机型

1150-1350

1350-2250

 

操作主界面:

 

工艺应用:

IR-CUT曲线实测:

 

环境测试:

 

水煮15分钟后,曲线无漂移

水煮后经3M胶带白格测试未发现脱膜

 

运行状态:

 

射频离子源通过改进能量和电流的均匀性,提高了膜层的堆积密度和材料的氧化度,从而抑制膜层的温度漂移及波长漂移!同时解决了膜层牢固度和膜料折射率等问题。

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