GTRF-17、GTRF-23射频离子源
GTRF-17、GTRF-23射频离子源
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GTRF-17、GTRF-23射频离子源
产品介绍
设备简介:
国泰真空全自主研发设计制造的GTRF-17和GTRF-23射频离子源主要用于精密光学镀膜,它具有能量高、能量分布均匀性好、工作时间长、污染小等优点,在镀膜领域的主要应用是离子束辅助沉积和离子束清洗等。
设备主要规格参数:
型号 | GTRF-17 | GTRF-23 |
栅网直径(mm) |
170 | 230 |
BEAM电流(mA) |
1500 | 2000 |
BEAM电压(V) |
1500 | 1500 |
ACC电压(V) |
1500 | 1500 |
中和比E/B(%) |
100-200 | 100-200 |
源头GAS1-O₂(sccm) |
0-100 | 0-100 |
源头GAS2-Ar (sccm) |
0-50 | 0-50 |
中和器GAS3 -Ar(sccm) |
5-20 | 5-20 |
连续使用时间(h) |
≥500 |
≥500 |
推荐使用机型 |
1150-1350 |
1350-2250 |
操作主界面:
工艺应用:
IR-CUT曲线实测:
环境测试:
水煮15分钟后,曲线无漂移
水煮后经3M胶带白格测试未发现脱膜
运行状态:
射频离子源通过改进能量和电流的均匀性,提高了膜层的堆积密度和材料的氧化度,从而抑制膜层的温度漂移及波长漂移!同时解决了膜层牢固度和膜料折射率等问题。
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