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磁控溅射真空镀膜设备

磁控溅射真空镀膜设备

磁控溅射真空镀膜设备

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磁控溅射真空镀膜设备
产品介绍

设备型号:磁控溅射真空镀膜设备

产品介绍

磁控溅射镀膜机应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。

该系列设备主要是使用直流(或中频)磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料,

可以利用溅射工艺进行镀膜,可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。

设备主要参数

真空室尺寸:12001400,1600,1800

真空系统:旋片泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选分子泵、深冷泵、深冷系统)

极限真空:6x10-4Pa

抽气时间:空载大气抽至5x10-3Pa,>13min

 

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