GTCK-1800磁控溅射镀膜机
GTCK-1800磁控溅射镀膜机
产品咨询电话：400-6667-357
GTCK-1800磁控溅射镀膜机
产品介绍
GTCK系列磁控溅射镀膜设备为单体溅射镀膜机，多台分子泵提供优良的真空条件，提供稳定的溅射条件。
设备特点：
腔体尺寸φ1200-φ2000mm
使用阳极层离子源/无栅射频ICP系统
通过ACS全自动镀膜控制系统实现全自动镀膜过程
工件架为多片挂架式/行星结构
无油排气系统可定制
成膜过程及状态可多角度观察
| 真空腔室尺寸 | SUS304 φ1920mmx1700mm（H） |
| 工件架 | 多片挂架式装配结构 |
| 工件架尺寸 | φ1800x1150 |
| 基板回转速度 | 3r/min-30r/min(可变) |
| 反应速率控制方式 | 反应速率控制Speedfol/直接反应 |
| 溅射源 | 旋转/平面阴极、中频/直流、2-6对 |
| 膜厚控制 | 晶控控制/时间累计控制 |
| 离子源 | 阳极层离子源/RF-ICP |
| 真空排气 | 机械泵+分子泵/低温泵/+深冷捕集泵 |
| 极限真空 | 2.5x10-4Pa |
| 排气时间 | 大气-4.0x10-3Pa/15min/常温空载 |
| 基板温度 | 最高350℃ |
| 空间要求 | 约5.1m（宽）x5.6m（深）x3m（高） |
| 电源要求 | 3相5线380v50Hz、约80kw |
| 冷却水要求 | 160L/min、0.2-0.3MPa、10-35℃ |
| 压缩空气 | 0.6MPa |
| 设备重量 | 约14000kg |
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无
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