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GTH-1150红外镀膜机

GTH-1150红外镀膜机

GTH-1150红外镀膜机

GTH系列红外光学真空镀膜设备适用于在Ge,Si, ZnSe, ZnS, 各类硫系玻璃等基材上镀膜。包括:增透膜,滤色片,分光膜,保护膜等。具有光谱重复性好,薄膜吸收小及膜层附着力良好的特点。
产品咨询电话:400-6667-357
GTH-1150红外镀膜机
产品描述

GTH系列红外光学真空镀膜设备适用于在Ge,Si, ZnSe, ZnS, 各类硫系玻璃等基材上镀膜。包括:增透膜,滤色片,分光膜,保护膜等。具有光谱重复性好,薄膜吸收小及膜层附着力良好的特点。

 

设备特点:

· 腔体尺寸φ900-φ1600mm

· 使用GTHC-8型空心阴极霍尔离子源

· 搭载单电子枪/环形坩埚和多点阻蒸

· ACS全自动镀膜控制系统实现全自动镀膜过程

· 工件架可选择球伞式、行星式

· 排气系统低真空泵组+高真空泵组+深冷

 

GTH-1150主要规格参数:

真空腔室尺寸 SUS304 φ1150mmx1300mm(H)
工件盘有效镀膜尺寸 φ1042mm、行星订购时说明
基板回转速度 3r/min-30r/min(可变)
晶振膜厚仪 XTC-3/MXC-3+6/16点晶控
蒸发源1 6/8位旋转阻蒸、3位独立阻蒸
蒸发源2 E型电子枪1套
离子源 GTHC-8
真空排气 机械泵+分子泵/低温泵/+深冷捕集泵

 

基本性能:

极限真空 8.0x10-5Pa
排气时间 大气-3.0x10-3Pa/12min/常温空载
基板温度 最高350℃

 

工作条件:

空间要求 约2.7m(宽)x4.6m(深)x2.7m(高)
电源要求 3相4线380v50Hz、约60kw
冷却水要求 100L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃
压缩空气 0.6MPa
设备重量 约4500kg
上一个

镀膜样片

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