GTCK-1800磁控溅射真空镀膜设备
GTCK-1800磁控溅射真空镀膜设备
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GTCK-1800磁控溅射真空镀膜设备
产品介绍
设备简介:
该系列设备主要是使用中频和直流磁控溅射,装载量更大,牢固度更高,耗能低,成膜过程及状态可多角度观察。可用于车载、光学等多个领域的镀膜应用,还可用于铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料的镀膜,适用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品、工艺品、手机壳、电子产品、建材等行业。
设备型号 | GTCK-1800 |
真空室尺寸 | 1800 |
真空系统 | 分子泵+罗茨泵+旋片泵+深冷机 |
极限真空 | 可达到8x10-5Pa |
抽气时间 | 空载大气至1x10-3Pa,≤13min |
膜厚均匀性 | ≤1% |
阻蒸 | 阻蒸系统 |
离子源 | 阳极层离子源 |
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