GTCK-1800磁控溅射真空镀膜设备
GTCK-1800磁控溅射真空镀膜设备
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GTCK-1800磁控溅射真空镀膜设备
产品介绍
设备简介：
该系列设备主要是使用中频和直流磁控溅射，装载量更大，牢固度更高，耗能低,成膜过程及状态可多角度观察。可用于车载、光学等多个领域的镀膜应用，还可用于铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料的镀膜，适用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品、工艺品、手机壳、电子产品、建材等行业。
| 设备型号 | GTCK-1800 |
| 真空室尺寸 | 1800 |
| 真空系统 | 分子泵+罗茨泵+旋片泵+深冷机 |
| 极限真空 | 可达到8x10-5Pa |
| 抽气时间 | 空载大气至1x10-3Pa，≤13min |
| 膜厚均匀性 | ≤1% |
| 阻蒸 | 阻蒸系统 |
| 离子源 | 阳极层离子源 |
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