2021年，什么事件值得记忆?2022年，行业哪些发展将要面对?对于国泰真空来说，2021年初强势推出两款大功率射频离子源GTRF-17和GTRF-23，是国泰技术团队全自主研发近3年时间研发出的高端国产射频离子源，打破了制造商对镀膜行业的技术封锁，同时也激励了同行制造业。

　　GTRF-17和GTR-F23两款射频离子源经过一年的时间大规模投入市场，帮助了众多客户提升产品品质，提高整体生产率，为光学制造业企业带来了一定效益，国泰真空一直大力积极推进科技创新，为光学镀膜行业蓬勃发展而献力。

▲国泰真空离子源装配间实拍

      下面为国泰真空GTRF-17和GTRF-23射频离子源介绍：

关于国泰射频离子源

　　射频离子源主要用于精密光学镀膜，它具有能量高、能量分布均匀性好、工作时间长、污染小等优点。射频离子源由射频电源供电，并通过匹配器进行自动匹配，产生等离子体，在栅网作用下引出离子束。射频离子源在镀膜领域的主要应用是：离子束辅助沉积和离子束清洗等。

国泰两款射频离子源主要技术指标

国泰射频离子源源头安装布局

▲GTRF-17射频离子源源头安装布局

▲GTRF-23射频离子源源头安装布局

操作主界面

国泰射频离子源工艺测试总结

离子源配置布局

离子源IR-CUT工艺参数

　　IR-CUT外观检测结果：

　　1、1-7圈整体透亮外观一致;

　　2、无发雾、发黑等不良外观现象。

镀制后，1-7圈无发雾现象如上图，灯光下检查外观，镜片整体透亮正常。

▲1-7圈实测曲线

IR-CUT水煮前后对比

▲恒温水浴锅，100℃水煮2小时，水煮前后曲线基本无变化，镜片使用3M胶带拉扯后未发现脱膜现象

　　射频离子源通过改进能量和电流的均匀性，提高了膜层的堆积密度和材料的氧化度，从而抑制膜层的温度漂移及波长漂移!同时解决了膜层牢固度和膜料折射率等问题。