第十七章 制备工艺对SiO2薄膜应力的影响
- 分类：工艺讲堂
- 作者：工艺部
- 来源：成都国泰真空设备有限公司
- 发布时间：2022-02-19
- 访问量：235
【概要描述】研究薄膜的应力行为，限制薄膜应力的影响，对提高光学薄膜的性能有重要意义。本章延续上一期内容，讨论沉积温度和氧分压参数对SiO2薄膜应力的影响。
第十七章 制备工艺对SiO2薄膜应力的影响
【概要描述】研究薄膜的应力行为，限制薄膜应力的影响，对提高光学薄膜的性能有重要意义。本章延续上一期内容，讨论沉积温度和氧分压参数对SiO2薄膜应力的影响。
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光学薄膜广泛应用于半导体器件、光电显示、光通信等领域。由于薄膜镀制过程中，经历了固相-气相-固相的变化过程，使得薄膜中普遍存在一定的应力，应力的存在不仅影响薄膜-基板系统的牢固度，还会引起基板发生形变，使膜系的中心波长发生改变。因此，研究薄膜的应力行为，限制薄膜应力的影响，对提高光学薄膜的性能有重要意义。
上期公众号主要讲述的是SiO2薄膜吸水后，薄膜的应力变化规律。本章延续上一期内容，讨论沉积温度和氧分压参数对SiO2薄膜应力的影响。
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第十六章 吸潮对SiO2薄膜应力的影响
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