全文共分五部分。

　　(一) 石英晶体监控膜厚的特点

　　(二) 石英晶振片的结构与压电效应

　　(三) 质量负荷效应

　　(四) 基于压电效应和质量负荷效应的膜厚测量系统

　　(五) 小结

　　(一) 石英晶体监控膜厚的特点

　　薄膜厚度几乎是镀膜工程师关注很多的几个技术参数之一了，她决定性地影响薄膜的力学性能、电学性能和光学性能。几乎所有的薄膜性能都与厚度有关，因此准确控制薄膜的厚度就成为制备具有优良性能的光学薄膜的关键。

　　监控薄膜厚度的方法主要有电阻法、称重法、石英晶体振荡法、光电极值法及其改进的各种光学厚度控制方法等。公认监控精度比较高的光学厚度控制法，在镀制λ/4膜层的时候，表现的非常优秀;但对于非λ/4膜堆为主的增透膜，不仅对使用者提出了较高的技术技巧，而且综合表现比较鸡肋。

　　石英晶体振荡法相对性价比更高，更加简易，受众更多。她直接监控的是薄膜的物理厚度，与工作波段无关，设置简单，各种厚度皆可控制，精度高，而且这种方法监控膜厚产生的信号容易处理并可进行自动控制。

　　石英晶体监控膜厚有2个突出的优点：