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高精度镀膜——RF离子源

  • 分类:公司新闻
  • 作者:
  • 来源:成都国泰真空设备有限公司
  • 发布时间:2022-01-04
  • 访问量:913

【概要描述】国泰真空设计制造的RF离子源利用多层立体栅网确保离子束方向性,支持离子束流和能量分别独立控制。具有工作时间长,能量高,均匀区大,污染小等优点。

高精度镀膜——RF离子源

【概要描述】国泰真空设计制造的RF离子源利用多层立体栅网确保离子束方向性,支持离子束流和能量分别独立控制。具有工作时间长,能量高,均匀区大,污染小等优点。

  • 分类:公司新闻
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  • 来源:成都国泰真空设备有限公司
  • 发布时间:2022-01-04
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国泰真空全自主研发几年时间

设计出GTRF-17和GTRF-23两款大功率RF离子源,

提供高质量薄膜和稳定的工艺操作。

RF离子源-首先使用13.56MHz高频信号激励电离子体,

产生等离子体,然后分别抽出离子、电子,

让其在空间内中和形成等离子体的高能离子源。

主要运用于高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积

 

国泰真空设计制造的RF离子源利用多层立体栅网确保离子束方向性,支持离子束流和能量分别独立控制。

具有工作时间长,能量高,均匀区大,污染小等优点。

水煮15分钟,曲线无基本变化;镜片粘拉后未发现膜掉情况

射频离子源通过改进能量和电流的均匀度,

提高了膜层的堆积密度和材料的氧化度。

抑制温度漂移、波长漂移以及解决了膜层牢固度和膜料折射率等问题。

适用于半导体、航天、光通讯、医疗、传感器等多个高端镀膜应用。

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