
第十五章 电子束蒸发成膜的膜厚误差研究
- 分类:工艺讲堂
- 作者:国泰真空 工艺部
- 来源:成都国泰真空设备有限公司
- 发布时间:2021-11-12
- 访问量:315
【概要描述】在光学薄膜的批量制备过程中,重要的控制技术是薄膜厚度控制。类如DWDM等高精度的光学薄膜,影响其制备成功率的核心技术之一就是膜厚误差控制技术。薄膜厚度误差不仅会改变薄膜的光学常数,而且会影响薄膜的光学特性,导致产品报废。因此,膜厚控制精度是评价设备性能的关键指标之一,从光学镀膜诞生起,如何精确控制成膜厚度就一直是长盛不衰的热点话题之一。
第十五章 电子束蒸发成膜的膜厚误差研究
【概要描述】在光学薄膜的批量制备过程中,重要的控制技术是薄膜厚度控制。类如DWDM等高精度的光学薄膜,影响其制备成功率的核心技术之一就是膜厚误差控制技术。薄膜厚度误差不仅会改变薄膜的光学常数,而且会影响薄膜的光学特性,导致产品报废。因此,膜厚控制精度是评价设备性能的关键指标之一,从光学镀膜诞生起,如何精确控制成膜厚度就一直是长盛不衰的热点话题之一。
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