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第十二章 HfO2薄膜折射率与制备工艺的关系

  • 分类:工艺讲堂
  • 作者:工艺部
  • 来源:国泰真空
  • 发布时间:2021-11-10
  • 访问量:214

【概要描述】在不同的沉积温度和氧分压下,利用电子束蒸发方法(EB)制备了HfO2单层膜。
光谱分析和样品的X射线衍射(XRD)测量分析表明:薄膜的非均质性与微观结构之间有着密切的联系:当沉积温度不够高,薄膜不足以结晶时,呈正非均质性,此时,较大的氧分压有利于获得均匀薄膜。对于结晶薄膜,晶粒越大,则薄膜的负非均质性就越大。晶粒度一定时,薄膜的负非均质性也不再变化。较大的氧分压也有利于制得均匀薄膜。

第十二章 HfO2薄膜折射率与制备工艺的关系

【概要描述】在不同的沉积温度和氧分压下,利用电子束蒸发方法(EB)制备了HfO2单层膜。
光谱分析和样品的X射线衍射(XRD)测量分析表明:薄膜的非均质性与微观结构之间有着密切的联系:当沉积温度不够高,薄膜不足以结晶时,呈正非均质性,此时,较大的氧分压有利于获得均匀薄膜。对于结晶薄膜,晶粒越大,则薄膜的负非均质性就越大。晶粒度一定时,薄膜的负非均质性也不再变化。较大的氧分压也有利于制得均匀薄膜。

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