第六十九章 红外探测器三波段高通滤光膜的研制
- 分类：工艺讲堂
- 作者：工艺部研发中心
- 来源：成都国泰真空设备有限公司
- 发布时间：2024-10-31
- 访问量：1000
【概要描述】本期主要分享团队成功研制红外探测器三波段高通滤光膜的实例。采用电子束真空镀膜的方法加以离子辅助，优化镀膜工艺参数如烘烤温度、蒸发速率、离子源、真空度等，改进监控方法，减少膜厚控制误差，并点解决了ZnS基底上膜层牢固耐久性与膜系的吸收和散射损耗问题，所镀制的薄膜满足红外探测器的性能要求以及使用环境要求
第六十九章 红外探测器三波段高通滤光膜的研制
【概要描述】本期主要分享团队成功研制红外探测器三波段高通滤光膜的实例。采用电子束真空镀膜的方法加以离子辅助，优化镀膜工艺参数如烘烤温度、蒸发速率、离子源、真空度等，改进监控方法，减少膜厚控制误差，并点解决了ZnS基底上膜层牢固耐久性与膜系的吸收和散射损耗问题，所镀制的薄膜满足红外探测器的性能要求以及使用环境要求
- 分类：工艺讲堂
- 作者：工艺部研发中心
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本期主要分享团队成功研制红外探测器三波段高通滤光膜的实例，以供大家参考。
1.材料选择及膜系结构设计
1.1基底的选择
选择材料的必要条件是：透明区间宽、吸收损耗小、应力匹配好等。因此，基底要具有稳定的光学性能和机械性能。一般来说，在3μm~5μm波段高折射率材料比较容易获得，如Si、Ge、ZnS都是在中远红外区优良的基底材料。但Si和Ge在可见区以及近红外区域不透明，具有较强的光能量吸收，容易造成薄膜器件的发热和破坏，对其性能会产生不利的影响。因此选用ZnS作为基底，ZnS具有良好的折射率均匀性，并且在中红外波段也有较高的透过率。
2.薄膜的制备
3.测试与分析
4.总结
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