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第三十六章 原子层沉积(ALD)技术

  • 分类:工艺讲堂
  • 作者:工艺部研发中心
  • 来源:成都国泰真空设备有限公司
  • 发布时间:2022-12-05
  • 访问量:520

【概要描述】近几年,ALD技术在大曲率和特殊形状的光学元件表面镀膜的优势越来越明显,本章内容跟大家科普一下ALD的工艺技术。

第三十六章 原子层沉积(ALD)技术

【概要描述】近几年,ALD技术在大曲率和特殊形状的光学元件表面镀膜的优势越来越明显,本章内容跟大家科普一下ALD的工艺技术。

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       成都国泰真空作为国内专业的光学真空镀膜设备制造商,主要管理、技术、经营和装配人员具有多年真空产品生产管理和技术经验,致力于为国内外客户提供专业定制化真空镀膜解决方案。感谢您对本公众号的关注,《工艺讲堂》栏目是长春理工大学中山研究院精密光学薄膜实验室与成都国泰真空联合建设的高性能光学薄膜工艺研发中心,以光学真空科学技术研发为目标,定期发布有关光学薄膜、工艺及设备的相关原创知识。欢迎读者朋友们就技术问题进行留言,编者很高兴与您交流讨论,共同为促进光学真空产业可持续发展贡献一份力量。

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