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磁控溅射真空镀膜设备

浏览:571    日期:2017-06-22

详细参数
 主要参数:
真空室尺寸 ZCK-1200,ZCK-1400,ZCK-1600,ZCK-1800  
真空系统 旋片泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选分子泵、深冷泵、深冷系统)
 
极限真空 6×10-4Pa
抽气时间 空载大气抽至5×10-3Pa,>13min
真空镀膜设备的具体配置可根据客户的镀膜工艺要求进行量身设计及制作
 
产品介绍:
      磁控溅射镀膜机应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。
该系列设备主要是使用直流(或中频)磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料,
可以利用溅射工艺进行镀膜,可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。